招股书显示，拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系。制程应用方面，公司产品已可应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

报告期内（2018年、2019年、2020年以及2021年1至3月，），拓荆科技各期前五大客户收入占各期比重分别为：100.00%、84.02%、83.78%和100%。公司累计销售额超1亿元的主要客户有中芯国际、华虹集团、长江存储等，其中公司来自中芯国际的收入占各期的比重分别为：14.80%、27.09%、45.73%以及17.94%。

此次科创板IPO，公司拟募资10亿元，其中约4亿元投向“先进半导体设备的技术研发与改进项目”。总体来看，随着全球半导体厂商持续扩产，半导体设备有望持续受益。

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